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兰红波教授应邀参加第26届NMC国际会议并作报告

  时间：2013-11-13   点击数：

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  11月5日-8日，在日本札幌召开的第26届微加工与纳米技术（26th International Microprocesses and Nanotechnology Conference）国际会议上，365完美机械学院兰红波教授作了30分钟的特邀报告，报告题目为“Large area nanoimprint lithography and industrial application”，这是本届会议上唯一来自中国大陆学者的大会报告。同时，兰红波教授作为分会主席主持了“Nanoimprint, Nanoprint and Rising Lithography”分会。
  NMC是每年召开一次的微纳米制造国际会议，今年是第26届，本届会议共有来自美国、德国、英国、法国、韩国、荷兰、芬兰、西班牙、日本、新加坡、中国等大学和研究所，以及ASML 、IBM、东芝、日立等知名国际跨国公司产业界的共计350多名专家、学者和研究人员参加了会议。
  另悉，2012年10月24日-26日在美国加州举办的第11届纳米压印国际会议上，兰红波教授也作大会报告。这充分显示365完美在纳米制造方面的研究逐渐引起国际同行的关注，影响力不断扩大。

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